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005 __ 20100303210214.0
010 __ ■a7-312-00392-3■dCNY6.70
092 __ ■a科技280-268
100 __ ■a19931114d1993    emky0chiy0110    ea
101 0_ ■achi
102 __ ■aCN■b340000
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200 1_ ■a等离子体化学与工艺■Adeng li zi ti hua xue yu gong yi■f赵化侨编著
210 __ ■a合肥■c中国科学技术大学出版社■d1993.2
215 __ ■a315页■d20cm
300 __ ■a英文题名:Plasma chemistry and processing
314 __ ■a赵化侨,中国科学技术大学任教
330 __ ■a阐述了等离子体化学的基本理论和和应用技术,包括:等离子体的发生、辉光放电过程的应用与解析、溅射制膜等8章。
510 1_ ■aPlasma chemistry and processing■zeng
606 0_ ■a等离子体■x化学
606 0_ ■2CT■3S012838■a等离子体
606 0_ ■2CT■3S032689■a化学
690 __ ■aO646.9■v三版
692 __ ■a54.24
701 _0 ■a赵化侨■Azhao hua qiao■4编著
801 __ ■aCN■bNLC■c20100603